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摘要： 如果asml放开专利，中国可以造出7nm光刻机吗？如果asml放开专利，中国可以造出7nm光刻机吗？ASML光刻机里的所有零部件都是全世界顶尖的公司供应，质量和做工的精密程度都是世...

1. 如果asml放开专利，中国可以造出7nm光刻机吗？

如果a***l放开专利，中国可以造出7nm光刻机吗？

A***L光刻机里的所有零部件都是全世界顶尖的公司供应，质量和做工的精密程度都是世界顶尖的，即使有了专利，图纸，没有这些零部件供应，靠一个国家之力还是很难做到的。就拿透镜这一个部件来说，中国要做出蔡司公司最高级别的产品还是不可能的。我们目前可以说是制造大国，但是说制造强国还真的还有很长的路要走。A***L公司的成功，是全世界大公司不停给它输血才做到的，中国目前实力再强大也做不到这点。

目前的问题不是专利的问题，专利都是公开的，如果我看到专利把设备做出来了，那么最后无非就是付专利费的问题。

现在的主要问题是工艺和原材料，两个相辅相成，比如激光镜头的打磨，这是一个精细活，需要很长时间的积累，欧洲很多企业就是家族式的作坊，几代人就做一件事情，就把这个镜头磨得越来越完美…类似的部件还有不少…

但这一切不是不可解决，主要是看我们的决心，***的支持，中国这么大市场体量的孵化，A***L被淘汰是迟早的事情！

专利反而不是制约我们造出高端光刻机的关键。

说白了，专利是用公开的手段换取科技控制权，不公开就没有专利权，所以保密性和专利权一般不可兼得，除非公布的技术方案里，故意隐藏一些技术参数或者关键点，但是这样无法完全保护产生专利保护。

而对于光刻机，A***L有很多压箱底的保密技术，不会轻易泄露，而且高端光刻机的制造难度更在于，它是全球顶尖科技工艺的汇集，并且通过顶级芯片代工企业，在生产实践中的不断验证和强化。

光刻机的制造目前被荷兰A***L、日本尼康和佳能、中国上海微电子四家所把持。我国虽占一席之地，但只限低端设备。

下面试着分析一下专利对光刻机制造的影响。

日本在光刻技术和光刻机制造领域起步较早，所以，日本的专利申请量最多，而且除了在本国大量布局之外，日本也比较重视在美国、韩国、中国台湾和中国大陆的专利布局。日本光刻有先发优势，在中低端光刻机的研发投入了大量精力，也布局了大量相关专利，所以在中低端光刻技术上，实力还是很雄厚的。

但是A***L后来居上，专注研发，且核心技术绝对保密，在专利建设上，也超过了尼康和佳能。近几年关于高端EUV光刻机的专利数量，排名第一的是老牌王者卡尔蔡司（Carl Zeiss），A***L位列第二名，再依次为海力士、三星，它们同时也是A***L的合作伙伴，日本尼康及佳能分别位列第四及第六位。

所以高端EUV光刻机的专利壁垒还是很高的。但需要注意：A***L深藏不漏的核心机密技术，是更具价值的。

A***L的成功是全球顶尖工艺的汇集和芯片代工企业在生产实践中的不断验证和强化。它***了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域等多项顶尖技术。

很多人都知道，中国目前无法生产制造最先进工艺的芯片，很大程度上是缺乏尖端光刻机，虽说光刻机可以从荷兰A***L进行购买，但是欧美的相关协议条款把中国拒之门外，所以无法购买最先进的光刻机，像A***L的euv极紫外光刻机可能需要很多年以后我们才能购买，当然，价格也会非常昂贵。

而如果有办法打破封锁协议，即使花重金，我们也能买到A***L的euv光刻机的话，那么我们国家是否就可以制造出7nm乃至5nm工艺的先进芯片呢？其实不然，芯片制造是一个非常系统复杂的过程，拥有先进光刻机固然重要，但是光刻机绝对不是唯一决定性的因素，而只是一部分。

一颗芯片的制造需要5000道程序，任何环节都缺一不可，而且一旦环节出了问题，整个芯片可能就会报废或者难产。台积电可以靠着euv光刻机来生产7nm芯片，而三星和英特尔也有euv光刻机，而且这些企业一定程度上也是A***L的股东，也是共同参与euv光刻机研发的企业，然而英特尔就一直停留在14nm工艺，三星也追不上台积电，所以一在这个中间环节，芯片制造仍然存在很多技术难点。

此外，A***L光刻机里的所有零部件都是全世界顶尖的公司供应，即使有了设备、专利和图纸，如果缺乏这些零部件供应，靠一个国家之力还是很难做到的。就拿透镜这一个部件来说，中国要做出蔡司公司最高级别的产品还是不可能的。所以说，芯片的制造过程是非常复杂的，任何一个国家仅靠一国之力都是不可能做到，所以全球化分工仍然是大势所趋，我们只是要尽可能掌握更多的核心技术。